「先端無機薄膜研究室」　 “Advanced Inorganic Thin Film Laboratory”

高度な機能を有する無機薄膜の合成方法としてスパッタリング法やイオンプレーティング法などの物理的気相成長（PVD）法は、幅広い産業分野に於いて、極めて重要な要素技術である。
これらの薄膜の電気的、光学的、熱的、力学的な物性は、欠陥構造（結晶としての不完全性、或いは不純物の存在形態）、結晶粒の微細構造や薄膜界面の構造に大きく依存することが知られている。　現在、応用範囲の多様化、高度化に従って、さらに高度な機能性を有する薄膜を設計し、作製する必要にせまられており、そのためにはこれらの薄膜について、欠陥構造、微細構造と薄膜諸物性の相関関係を詳しく調べ、薄膜中の欠陥を高度に制御する成膜方法を確立しなければならない。　
当研究室では、主としてＤＣ或いはＲＦグロー放電を用いたプラズマプロセスにより、透明導電膜、透明酸化物半導体、光触媒薄膜、サーモクロミック膜、エレクトロクロミック膜、超高硬度薄膜等の様々な高度な機能を有する酸化物や窒化物の無機薄膜の合成と、得られた薄膜の構造·物性のキャラクタリゼーションに関する研究を行う。

＜相談に対応できる技術分野＞
透明導電膜 (ITO, IZO, AZO, GZO, ATO, TTO, NTO等)、透明酸化物半導体 (a-IGZO, a-ITZO, a-IZO 等)、窒化物系機能性薄膜 (GaN, AlGaN, InGaN, InN, AlN, WNx, MoNx等)、超硬質膜 (TiAlNx, TiSiNx TiSiAlNx, DLC等)、エレクトロクロミック素子 (WO3, NiOx, MoOx, InNx, SnNx)、サーモクロミック膜 (VO2, W:VO2等)、種々の光学薄膜 （NbOx, TiO2, SiNx, SiO2 等）、種々の金属薄膜（遷移金属から貴金属まで）、バリアー膜 (SiNx, Al2O3, DLC, 等)、光触媒膜 (TiO2, WO3, 等) の物理気相成長法（反応性スパッタリング、イオンプレーティング、活性化蒸着法等）や化学気相成長法（種々のCVD法）に関するコンサルティング（実験機から生産機まで）、共同研究から試作まで。最新の技術動向を含む真空成膜装置設計の助言。プロセッシングプラズマの発生、診断。さらに、これらの機能性薄膜に関する構造解析、化学状態解析、光・電子物性解析等。種々の薄膜デバイスに関するコンサルティング。

無機材料、無機薄膜、半導体デバイス、真空装置の研究開発・製造メーカー